全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭ASML宣布將旗下最先進(jìn)光刻機(jī)「樂(lè)高化」，推出High-NA EUV光刻機(jī)Twinscan EXE：5000樂(lè)高模型，售價(jià)227.95美元，雖然價(jià)格相當(dāng)高，但已比實(shí)機(jī)造價(jià)3.8億美元還實(shí)惠了。

圖片來(lái)源：ASML

ASML 的 High-NA EUV 光刻機(jī)將提供 0.55 數(shù)值孔徑的投影光學(xué)器件，目前英特爾也使用這臺(tái)設(shè)備研發(fā) Intel 18A（1.8 納米級(jí)）技術(shù)。

ASML TWINSCAN EXE：5000樂(lè)高模型由ASML工程師Rick Lenssen打造，總共有851個(gè)樂(lè)高零件，當(dāng)完成最后一塊樂(lè)高后，模型尺寸為13.86×3.9×2.52吋，相當(dāng)具有收藏價(jià)值。

ASML 相當(dāng)看好TWINSCAN EXE：5000 樂(lè)高模型的銷售量，因此每位顧客只能訂購(gòu)一套。 先前ASML也推出過(guò)樂(lè)高版ASML Skyline和TWINSCAN NXE：3400C模型，后者還有在發(fā)售，售價(jià)為166.70美元。

ASML工程師Rick Lenssen先前花1年半時(shí)間設(shè)計(jì)荷蘭總部藍(lán)圖，再用了1年將2.5萬(wàn)片樂(lè)高積木固定并拼出總部細(xì)節(jié)。