當(dāng)?shù)貢r(shí)間4月30日，歐洲首個(gè)尖端半導(dǎo)體工廠在英國南安普頓大學(xué)投入運(yùn)營。

該工廠將采用尖端電子束技術(shù)制造下一代半導(dǎo)體。據(jù)介紹，該新型電子束光刻設(shè)備是歐洲首臺(tái)、全球第二臺(tái)。

電子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一種基于電子束直寫或投影的納米級(jí)圖形加工技術(shù)，其核心優(yōu)勢在于突破光學(xué)衍射極限，可實(shí)現(xiàn)亞10納米級(jí)精度。電子束光刻技術(shù)使用聚焦的電子束在材料中創(chuàng)建具有無與倫比分辨率的圖案，從而使研究人員能夠創(chuàng)建比人類頭發(fā)小數(shù)千倍的特征。

據(jù)了解，電子束光刻技術(shù)具備極其優(yōu)秀的分辨率，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)超傳統(tǒng)光刻的精度，也無需經(jīng)過掩膜直寫，對(duì)研發(fā)、小批量生產(chǎn)、原型設(shè)計(jì)有優(yōu)勢。與目前主流采用激光進(jìn)行圖案化處理的技術(shù)不同，電子束光刻是一種利用高能電子對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光的技術(shù)，通過高能電子與物質(zhì)相互作用，直接激發(fā)光刻膠化學(xué)反應(yīng)，從而刻畫出半導(dǎo)體電路結(jié)構(gòu)。

電子束光刻在先進(jìn)半導(dǎo)體制造中有著重要應(yīng)用，特別是在需要高精度圖形的場合。例如，它可以用于制作光學(xué)掩模版、微納加工等領(lǐng)域。此外，電子束光刻也在科研和教育中有著廣泛應(yīng)用，用于教學(xué)和研究中的高精度圖形制作。
英國科學(xué)大臣Patrick Vallance表示，南安普敦的新電子束設(shè)施將極大地提升該國的半導(dǎo)體領(lǐng)域相關(guān)能力。