近日，佳能宣布成功交付首臺新型納米壓印（NIL）光刻機，設(shè)備將被送往美國得克薩斯電子研究所（TIE）。

資料顯示，TIE設(shè)立于2021年、是由德州大學(xué)奧斯汀分校支持成立的半導(dǎo)體聯(lián)盟，由德州當(dāng)?shù)卣?、半?dǎo)體企業(yè)、國立研究所等所組成，而TIE將使用NIL光刻機進(jìn)行研發(fā)與試產(chǎn)先進(jìn)半導(dǎo)體。

傳統(tǒng)的光刻機通過將電路圖案投影到涂有光刻膠的晶圓上來轉(zhuǎn)移電路圖案，佳能的設(shè)備則是通過將“印有電路圖案的掩模像印章一樣壓入晶圓上的光刻膠中”來生產(chǎn)芯片。由于電路圖案的轉(zhuǎn)移不需要通過光學(xué)機制，掩模上的精細(xì)電路圖案可以在晶圓上再現(xiàn)。

早在去年十月，佳能便發(fā)布了全球首臺商業(yè)化納米壓印光刻系統(tǒng)FPA-1200NZ2C，佳能表示這款設(shè)備可以實現(xiàn)最小線寬為14納米的電路圖案，相當(dāng)于當(dāng)前生產(chǎn)先進(jìn)邏輯半導(dǎo)體用到的5納米節(jié)點。

另據(jù)佳能透露，經(jīng)由改良、期待未來NIL光刻機可進(jìn)一步用來生產(chǎn)2納米產(chǎn)品。此外，日媒報道，佳能光學(xué)設(shè)備事業(yè)本部副本部長巖本和德近日對外表示，目標(biāo)在3-5年內(nèi)、每年賣出十幾臺光刻機。