3月19日，英偉達(dá)宣布，為加快下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC和Synopsys將在生產(chǎn)中使用NVIDIA計(jì)算光刻平臺(tái)。

臺(tái)積電、新思科技已將NVIDI AcuLitho集成到其軟件、制造工藝和系統(tǒng)中，在加速芯片制造速度的同時(shí)，加快對(duì)未來最新一代NVIDIA Blackwell架構(gòu)GPU的支持。

英偉達(dá)CEO黃仁勛表示，計(jì)算光刻技術(shù)是芯片制造的基石，公司與臺(tái)積電和新思科技合作開發(fā)的cuLitho技術(shù)，應(yīng)用了計(jì)算加速和生成式人工智能（AI），從而開辟半導(dǎo)體制造的新領(lǐng)域。

同時(shí)，英偉達(dá)宣布推出新的生成式AI算法，增強(qiáng)cuLitho。與當(dāng)前基于CPU計(jì)算的方法相比，可顯著改進(jìn)半導(dǎo)體制造工藝。

英偉達(dá)指出，計(jì)算光刻是半導(dǎo)體制造過程中計(jì)算最密集的工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億小時(shí)CPU運(yùn)行時(shí)間。其中芯片生產(chǎn)關(guān)鍵步驟中的典型掩模，可能需要耗費(fèi)3000萬或者更多小時(shí)CPU計(jì)算時(shí)間，這就需要在半導(dǎo)體代工廠內(nèi)建設(shè)大型數(shù)據(jù)中心。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)