7月18日，中國(guó)招標(biāo)投標(biāo)公共服務(wù)平臺(tái)官網(wǎng)公示，上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司（以下簡(jiǎn)稱“華虹宏力”）中紫外步進(jìn)式光刻機(jī)項(xiàng)目中標(biāo)結(jié)果。標(biāo)的物為中紫外步進(jìn)式光刻機(jī)，中標(biāo)人為日本制造商N(yùn)ikon Corporation。

據(jù)官網(wǎng)介紹，華虹宏力是華虹半導(dǎo)體全資子公司，由原上海華虹NEC電子有限公司和上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司新設(shè)合并而成。目前，華虹宏力在上海金橋和張江共有三座8英寸晶圓廠（華虹一廠、二廠及三廠），月產(chǎn)能約18萬片。

華虹宏力工藝技術(shù)覆蓋1微米至90納米各節(jié)點(diǎn)，工藝類型包括嵌入式非易失性存儲(chǔ)器（eNVM）、功率器件、模擬及電源管理和邏輯及射頻等差異化工藝平臺(tái)。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)