11月18日，盛美上海宣布推出涂膠顯影Track設(shè)備，標志著該公司已正式進軍涂膠顯影Track市場，這也是該公司提升其在清洗、涂膠和顯影領(lǐng)域內(nèi)專業(yè)技術(shù)的必然結(jié)果。

據(jù)介紹，盛美上海涂膠顯影Track設(shè)備是一款應用于300毫米晶圓工藝的設(shè)備，可提供均勻的下降氣流、高速穩(wěn)定的機械手處理以及強大的軟件系統(tǒng)，從而滿足客戶特定需求。該設(shè)備功能多樣，能夠降低產(chǎn)品缺陷率，提高產(chǎn)能，節(jié)約總體擁有成本（COO）。涂膠顯影Track設(shè)備將支持包括i-line、KrF和ArF系統(tǒng)在內(nèi)的各種光刻工藝。

涂膠顯影Track設(shè)備支持光刻工藝，可確保滿足工藝要求，同時讓晶圓在光刻設(shè)備中曝光前后的涂膠和顯影步驟得到優(yōu)化。該設(shè)備專為300毫米晶圓而設(shè)計，共有4個適用于12英寸晶圓的裝載口，8個涂膠腔體、8個顯影腔體。該設(shè)備腔體溫度可精準控制在23°C ±0.1°C ，烘烤范圍為50°C至250°C，晶圓破損率低于1/50,000 。此外，全球?qū)＠暾埍Ｗo的全新結(jié)構(gòu)設(shè)計還可拓展支持12個涂膠腔體及12個顯影腔體，每小時晶圓產(chǎn)能可達300片，將來在配備更多的涂膠和顯影腔體的條件下還能達到每小時400片以上的產(chǎn)能。

據(jù)了解，盛美上海于2013年開發(fā)了首個封裝涂膠機和顯影機，并于2014年交付了給客戶。該公司將于幾周后向中國國內(nèi)客戶交付首臺ArF工藝涂膠顯影Track設(shè)備，并將于2023年推出i-line型號設(shè)備。此外，該公司已開始著手研發(fā)KrF型號設(shè)備。盛美上海董事長王暉表示，鑒于全球邏輯及存儲器制造商正在尋求第二供應商，公司相信這款全新產(chǎn)品會有巨大的需求潛力。

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