全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 （ASML） 公布今年第一季財報，季營收19.4億歐元，毛利率為47.6%，EUV極紫外光微影系統(tǒng)的未出貨訂單則已累積到21臺，價值高達23億歐元，預估第二季營收將落在19到20億歐元之間，毛利率約為43到44%。

ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得 （Peter Wennink） 指出，“積極的產業(yè)環(huán)境為2017年提供了一個的強勁開始，我們預估這樣健康的市場需求將持續(xù)今年一整年。我們看到客戶對于DUV的強烈需求，有些客戶選購效能升級方案以優(yōu)化他們現有的浸潤式機臺，因此我們的服務和升級業(yè)務在第一季度的表現也非常好，預估這樣的趨勢將延續(xù)到第二季。”

溫彼得也說明攸關先進制程設備銷售進展，指出EUV極紫外光微影系統(tǒng)正進入量產階段，訂單持續(xù)涌入，目前的未出貨訂單已累積到21臺。

三星去年年中傳出購買EUV 機臺設備，傳出預計今年底量產7納米；臺積電7納米制程已在第一季底試產與準備明年量產，此制程首度導入極紫外光微影技術，并為客戶提供強化版的產品設計。

對于第一季產品銷售情況，ASML表示，深紫外光 （DUV）微影持續(xù)出貨，NXT:1980浸潤式微影系統(tǒng)給存儲器客戶及邏輯芯片客戶進行10納米量產、7納米制程開發(fā)，目前NXT:1980浸潤式系統(tǒng)的累積裝機量已提高達到60多臺。

本季ASML和Cadence宣布合作，將ASML的微影和圖樣模擬（patterning simulation） 模型整合到Cadence的產品中，這將幫助芯片設計業(yè)者在設計階段就能進行可生產性確認，以達到更好的效能并縮短上市時程。極紫外光（EUV）微影已在第一季末到第二季初間完成第一臺NXE:3400B系統(tǒng)的出貨。

展望第二季，ASML預估整體銷售凈額可達19到20億歐元，毛利率約落在43到44%，其中包含約2億歐元的EUV營收。研發(fā)投資金額提高到3.15億歐元，其他收入部份 （包括來自于客戶共同投資計劃的收入）約為2,400萬歐元，管銷費用支出則約1億歐元，年化稅率約13~14%。ASML預估在第二季會有另外3臺NXE:3400B EUV微影系統(tǒng)完成出貨。