據(jù)TechNews 科技新報(bào)報(bào)道，英特爾近期將向荷蘭ASML采購(gòu)的High-NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)）設(shè)備數(shù)量由一臺(tái)增加至兩臺(tái)，凸顯其對(duì)14A制程的高度重視。

隨著半導(dǎo)體制程向更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)，傳統(tǒng)EUV光刻技術(shù)逐漸接近物理極限，High-NA EUV被視為打破瓶頸的關(guān)鍵設(shè)備。 ASML的High-NA EUV設(shè)備產(chǎn)能有限，每年約生產(chǎn)五至六臺(tái)，且單臺(tái)價(jià)格約3.7至3.8億美元（約合26至27億元人民幣），僅少數(shù)財(cái)力雄厚的晶片廠如臺(tái)積電、三星、SK海力士和英特爾能夠承擔(dān)。

英特爾積極擴(kuò)大投資，部分得益于近期外部注資支援。例如，英特爾于2025年獲得輝達(dá)注入50億美元資金，以及軟銀投資20億美元，這些資金有效增強(qiáng)了英特爾的現(xiàn)金流和資本支出能力，使其能搶先包下ASML High-NA EUV初期產(chǎn)能。

英特爾的戰(zhàn)略重點(diǎn)放在14A制程（1.4奈米節(jié)點(diǎn)）上，計(jì)劃利用High-NA EUV技術(shù)來(lái)提升制程精度與良率，吸引更多代工客戶。然而，公司高層已明確表示，若14A制程未能成功獲取市場(chǎng)認(rèn)可，英特爾將被迫退出高端制程節(jié)點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)，這將對(duì)其一站式代工服務(wù)（IFS, Intel Foundry Services）業(yè)務(wù)造成重大沖擊。

目前雖已增購(gòu)第二臺(tái)High-NA EUV設(shè)備，但該設(shè)備能否徹底突破制程瓶頸，仍存在不確定因素。包括良率管理、設(shè)計(jì)工具成熟度及完整供應(yīng)鏈協(xié)同能力，都將決定英特爾是否能成功翻身。英特爾高階工程師Steve Carson透露，他們已通過(guò)首批兩臺(tái)High-NA EUV設(shè)備每季度生產(chǎn)約3萬(wàn)片晶圓，其中硅晶圓可制造數(shù)千顆晶片，顯示設(shè)備穩(wěn)定性已有明顯提升。