盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司于2025年9月18日宣布，成功推出首款高產(chǎn)能KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith，并已成功交付中國一家領(lǐng)先的邏輯晶圓廠。該設(shè)備基于盛美成熟的ArF涂膠顯影設(shè)備平臺，融合先進(jìn)的溫控技術(shù)及即時工藝監(jiān)測系統(tǒng)，實現(xiàn)高效穩(wěn)定的制程控制。

Ultra Lith采用靈活的工藝模組配置，配備12個旋涂腔和12個顯影腔（12C12D），搭載54塊精準(zhǔn)控溫?zé)岚?，支持低溫、中溫及高溫制程工藝。設(shè)備產(chǎn)能超過300片晶圓每小時，并集成專利申請中的背面顆粒去除模組，有效降低交叉污染風(fēng)險，同時搭載晶圓級異常檢測系統(tǒng)，提升生產(chǎn)良率與穩(wěn)定性。

盛美半導(dǎo)體董事長王暉表示，KrF曝光技術(shù)仍是成熟制程零組件制造的核心，隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)大，該類設(shè)備需求將穩(wěn)步增長。盛美通過提供包含ArF與KrF工藝的全面涂膠顯影系統(tǒng)，致力于提升晶圓廠整體制造靈活性與效率。