近期，一則“7納米光刻機實現(xiàn)國產(chǎn)化”消息在業(yè)界刷屏，消息指出清華大學(xué)EUV項目實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示該項目已在雄安新區(qū)落地。

對此，9月18日中國電子院官微進行了澄清。該項目不是國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS），而且項目位于北京懷柔雁棲湖畔。

HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機。它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進行立體掃描從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界HEPS，是進行科學(xué)實驗的大科學(xué)裝置。

據(jù)悉，上述項目在2019年始建設(shè)，將在2025年底投入使用，是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的，第四代同步輻射光源之一。

項目由全國勘察設(shè)計大師、國投集團首席科學(xué)家婁宇帶隊，中國電子院多個技術(shù)科研和設(shè)計團隊協(xié)同合作，從項目可研立項到項目落地攻克了多項技術(shù)和工藝難關(guān)。目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)