據(jù)日經(jīng)新聞報(bào)道，佳能計(jì)劃投資500億日元提高光刻機(jī)產(chǎn)量，將其在日本的半導(dǎo)體制造設(shè)備產(chǎn)量翻一番。

報(bào)道稱，佳能將在日本東部栃木縣新建一座半導(dǎo)體設(shè)備廠，目標(biāo)將當(dāng)前產(chǎn)能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3.45億美元），工廠計(jì)劃在2023年動(dòng)工，2025年開始運(yùn)營。

光刻是半導(dǎo)體電路形成不可或缺的核心技術(shù)，目前佳能在日本擁有2處半導(dǎo)體光刻設(shè)備生產(chǎn)基地，可用于汽車控制系統(tǒng)等應(yīng)用的芯片制造，此次新工廠將建在現(xiàn)有工廠基礎(chǔ)上，這是佳能21年來建造的第一座光刻設(shè)備新工廠。

佳能預(yù)測，2022年半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷量比上年增長29%，增至180臺(tái)，最近10年內(nèi)激增至4倍。建設(shè)新工廠后，2個(gè)基地的總產(chǎn)能將增至約2倍。

此外，佳能還在考慮在該工廠生產(chǎn)下一代設(shè)備，利用被稱為“納米壓印”（nano-imprint）的技術(shù)，開發(fā)以低成本制成尖端微細(xì)電路的新一代設(shè)備。

目前，佳能公司與大日本印刷、鎧俠正共同開發(fā)納米壓印設(shè)備，在學(xué)術(shù)界，日本研究者也已經(jīng)演示了10納米分辨率的納米壓印技術(shù)，據(jù)估計(jì)如使用納米壓印制造先進(jìn)制程芯片，成本將比現(xiàn)有EUV光刻機(jī)降低40%，能耗減少90%，有望成為EUV光刻的替代工藝。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)