2025-12-22
比利時微電子研究中心（IMEC）已成功利用阿斯麥最先進的極紫外光刻（EUV）設備，實現(xiàn)了納米孔的全晶圓級制造...
2025-09-29
根據(jù)外媒Techpowerup報道，近日ASML表示，根據(jù)目前的訂單資訊和需求，預計2027年將交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻機
2025-09-29
近期，半導體光刻機領域動作不斷，英特爾和三星等大廠提高了光刻機訂單量，與此同時，俄羅斯公布了光刻機研發(fā)路線圖，旨在推動本土芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展...
2025-09-26
媒體報道稱英特爾近期將向荷蘭ASML采購的High-NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光刻機）設備數(shù)量由一臺增加至兩臺
2025-09-03
2025年9月3日，SK海力士宣布，已將業(yè)界首款量產(chǎn)型高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（High NA EUV*）引進韓國利川M16工廠，并舉行了設備入廠慶祝儀式...
2025-07-24
美國半導體初創(chuàng)公司xLight宣布，已完成一輪超額認購的4000萬美元B輪股權融資，旨在打造一款新型激光器的首款原型機...
2025-02-27
2月25日，美光（Micron）正式推出基于全新1γ（1-gamma）制程技術的16Gb DDR5存儲器，這是美光首次采用極紫外光（EUV）曝光技術。新存儲器不...
2025-02-26
據(jù)路透社報道，半導體大廠英特爾近日表示，半導體設備大廠阿斯麥（ASML）的首批兩臺尖端高數(shù)值孔徑（High NA）光刻機已在其工廠正式投入生產(chǎn)，且早期...
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