根據(jù)外媒Techpowerup報導(dǎo)，近日ASML表示，根據(jù)目前的訂單資訊和需求，預(yù)計2027年將交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻機(jī)。其中，英特爾和三星最近都提高了光刻機(jī)的訂單量，英特爾將High-NA EUV的訂購數(shù)量從1套提高到2套，EUV的訂購數(shù)量從3套提高到5套，另外三星也將EUV的訂購數(shù)量從原本的5套提高到7套。

值得注意的還有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV光刻機(jī)里占了20套的數(shù)量，同時也將High-NA EUV的訂購數(shù)量從1套提高到2套。此外，傳聞SK海力士計畫在未來兩年內(nèi)安裝好20套EUV光刻機(jī)，全部是為了HBM及先進(jìn)存儲解決方案所采購的。

雖然英特爾很可能是首個在量產(chǎn)過程中導(dǎo)入High-NA EUV曝光技術(shù)的半導(dǎo)體制造商。不過，三星和SK海力士正在迎頭趕上。特別是SK海力士，以目前的產(chǎn)能擴(kuò)張速度，預(yù)計將需要更多的廠房，以為準(zhǔn)備安裝光刻機(jī)留下足夠的空間。