據(jù)《科創(chuàng)板日報(bào)》12日報(bào)道，荷蘭芯片設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）韓國華城園區(qū)竣工。阿斯麥華城園區(qū)總面積1.6萬平方米，設(shè)有深紫外（DUV）光刻、極紫外（EUV）光刻等設(shè)備零部件再制造中心和先進(jìn)技術(shù)培訓(xùn)中心。據(jù)悉，阿斯麥曾發(fā)布到2025年投資2400億韓元在華城市建造半導(dǎo)體設(shè)備集群的計(jì)劃。

資料顯示，阿斯麥?zhǔn)侨虬雽?dǎo)體光刻系統(tǒng)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者，總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬，在全球60多個(gè)地區(qū)設(shè)有機(jī)構(gòu)，其核心業(yè)務(wù)是為半導(dǎo)體廠商提供光刻機(jī)及配套軟硬件和服務(wù)，其產(chǎn)品覆蓋不同技術(shù)節(jié)點(diǎn)，形成差異化競爭優(yōu)勢。其中DUV深紫外光刻機(jī)作為主流高端芯片制造的主力設(shè)備，借助ArF浸沒式技術(shù)，可生產(chǎn)7納米、5納米等先進(jìn)制程芯片，通過多重曝光技術(shù)還能適配更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)。該設(shè)備在市場中技術(shù)領(lǐng)先，是眾多芯片廠實(shí)現(xiàn)成熟制程與中高端制程生產(chǎn)的核心裝備。