據(jù)上海臨港消息，8月2日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司舉行臨港產(chǎn)業(yè)化基地落成慶典，標(biāo)志該基地正式投入使用。

2021年，中微公司啟動(dòng)了中微臨港產(chǎn)業(yè)化基地、中微臨港總部和研發(fā)基地的建設(shè)。中微臨港產(chǎn)業(yè)化基地總投資16.7億元，占地157畝，總建筑面積約18萬平方米，為中微最大的生產(chǎn)制造基地。配備行業(yè)領(lǐng)先的實(shí)驗(yàn)室、業(yè)界高標(biāo)準(zhǔn)的潔凈室、先進(jìn)的生產(chǎn)車間及智能化立體倉庫等設(shè)施，可實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)全程數(shù)字化、智能化管理。

據(jù)悉，2023年7月，中微公司南昌生產(chǎn)研發(fā)基地落成并投入使用，該基地面積為14萬平方米；目前，位于滴水湖畔的中微臨港總部暨研發(fā)大樓也正在建設(shè)中，建成后占地面積約10萬平方米。未來，中微公司的生產(chǎn)和研發(fā)基地總面積將達(dá)到約45萬平方米。

此外，據(jù)了解，中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國際一線客戶先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用，中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場占據(jù)優(yōu)勢地位。中微公司在刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、MOCVD設(shè)備等領(lǐng)域均取得了顯著成就。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)