近日，晶洲裝備二期濕制程智能裝備生產項目潔凈車間迎來竣工，即將投產。該項目的落成，使晶洲在一期項目的基礎上擴容生產建筑面積近萬平方米，總建筑積達5萬平方米，月產泛半導體裝備可達百臺以上，進一步提升了晶洲泛半導體裝備的研發(fā)及制造能力。

據(jù)晶洲裝備表示，以顯示制程的濕法刻蝕機為例，晶洲曾獲江蘇省首臺(套)重大裝備認證的G6濕法刻蝕機寬4米、高4.5米、長達30米，這樣一個體積龐大的大型裝備，潔凈度要求卻非常高，設備內部潔凈度要求達到Class10，即每立方米空間直徑0.5微米~5微米的顆粒物不能超過10個，而人體細胞的平均直徑在10-20微米，相當于每立方米空間不能有超過10個細胞大小的顆粒物。

資料顯示，蘇州晶洲裝備科技有限公司2011年成立于蘇州常熟高新技術產業(yè)開發(fā)區(qū)辛莊工業(yè)園，業(yè)務范圍集研發(fā)、設計、制造、銷售及售后為一體，專注于平板顯示、光伏、半導體領域的高精密清洗、顯影、濕法刻蝕、光阻剝離等高端濕制程設備的生產及研發(fā)，并同步延伸自動化、智能化、綠色化配套，如廢液在線回收系統(tǒng)、機器人運用等。

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