近日，由北方華創(chuàng)自主研發(fā)的12英寸高密度等離子體化學(xué)氣相沉積（HDPCVD）設(shè)備Orion Proxima正式進入客戶端驗證。

北方華創(chuàng)稱，這標志著北方華創(chuàng)在絕緣介質(zhì)填充工藝技術(shù)上實現(xiàn)了新的突破，也為北方華創(chuàng)進軍12英寸介質(zhì)薄膜設(shè)備領(lǐng)域，打開百億級市場邁出了堅實的一步。

北方華創(chuàng)表示，Orion Proxima作為北方華創(chuàng)推出的國產(chǎn)自研高密度等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備，主要應(yīng)用于12英寸集成電路芯片的淺溝槽絕緣介質(zhì)填充工藝，通過沉積-刻蝕-沉積的工藝方式可以有效完成對高深寬比溝槽間隔的絕緣介質(zhì)填充。現(xiàn)階段，Orion Proxima技術(shù)性能在迭代升級中已達業(yè)界先進水平。

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