近日，ASML發(fā)布了2022年第四季度及全年財報，并且披露了未來的技術(shù)發(fā)展路線，其中ASML在下一代EUV光刻機——High NA EUV光刻機方面的進展值得關注。

ASML財報顯示，2022年第四季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額64億歐元（當前約471.68億元人民幣），毛利率為51.5%，凈利潤達18億歐元（當前約132.66億元人民幣）；季度凈預訂量為63億歐元（當前約464.31億元人民幣），其中34億歐元（當前約250.58億元人民幣）為EUV。

從2022年整年看，ASML實現(xiàn)凈銷售額212億歐元（當前約1562.44億元人民幣），毛利率為50.5%，凈利潤達56億歐元（當前約412.72億元人民幣）。

據(jù)悉，2022年ASML實現(xiàn)了不少重要進展，例如在DUV方面，他們交付了NXT KrF 系統(tǒng)的首臺設備TWINSCAN NXT:870和第一臺TWINSCAN NXT:2100i。目前，ASML還在繼續(xù)研究開發(fā)下一代EUV光刻機——High NA EUV光刻機。

按照ASML所說，在歷經(jīng)六年的研發(fā)后，他們在2022年收到了供應商提供的第一個高數(shù)值孔徑機械投影光學器件和照明器（illuminator）以及新的晶圓載物臺（wafer stage）。這些模塊將用于EXE:5000的初始測試和集成，是其中的一個重要的步驟。

ASML表示，2022年公司收到了所有現(xiàn)有EUV客戶的采購訂單，要求交付業(yè)界首個TWINSCAN EXE:5200系統(tǒng)——具有High-NA和每小時220片晶圓生產(chǎn)率的EUV大批量生產(chǎn)系統(tǒng)。

關于未來的EUV光刻機發(fā)展路徑，ASML首席技術(shù)官Martin van den Brink在財報中透露，他認為Hyper-NA EUV有望在這個十年結(jié)束后成為現(xiàn)實，即客戶將在2024到2025間在其上面進行研發(fā)，并有望在2025到2026年間進行大規(guī)模量產(chǎn)。據(jù)悉，High-NA光刻機可以在關鍵層上做更小的CD。

據(jù)悉，High-NA光刻機可以在關鍵層上做更小的CD，但是現(xiàn)在在開發(fā)商也面臨著巨大的挑戰(zhàn)。“開發(fā)High-NA技術(shù)的最大挑戰(zhàn)是為EUV光學器件構(gòu)建計量工具。High-NA反射鏡的尺寸是前一代產(chǎn)品的兩倍，并且需要在20皮米內(nèi)保持平坦。要實現(xiàn)這些目的，需要在一個大到‘你可以在其中容納半個公司’的真空容器中進行驗證。”Martin van den Brink說。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)