2月14日晚間，上海新陽(yáng)發(fā)布公告稱，公司擬與上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)管委會(huì)、上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)發(fā)展有限公司簽訂《投資意向協(xié)議》，變更全資子公司上海芯刻微材料技術(shù)有限責(zé)任公司注冊(cè)于上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)，并啟動(dòng)位于上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)的項(xiàng)目建設(shè)。

據(jù)公告披露，項(xiàng)目主要開(kāi)發(fā)集成電路關(guān)鍵工藝材料，總投資額約5.8億元，占地約104畝。預(yù)計(jì)年產(chǎn)500噸I線、KrF、ArF干/濕法光刻膠；年產(chǎn)10000噸光刻膠稀釋劑；年產(chǎn)5000噸高選擇比氮化鈦刻蝕液系列產(chǎn)品；年產(chǎn)15000噸干法蝕刻清洗液系列產(chǎn)品。

項(xiàng)目擬于2023年取得施工許可證，2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)。

公開(kāi)資料顯示，光刻膠是一種對(duì)光敏感的混合液體，其主要作用是通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，基于曝光、顯影等光工序?qū)⑺枰涛g的細(xì)微圖形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻膠還可以保護(hù)硅基材免受腐蝕，阻止離子影響。

光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，廣泛應(yīng)用于350nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。

上海新陽(yáng)曾于2022年8月左右表示，公司在ArF光刻膠方面，ArF、ArF-i光刻膠研發(fā)進(jìn)展順利，已經(jīng)形成兩個(gè)系列試驗(yàn)產(chǎn)品，樣品已經(jīng)進(jìn)入客戶端進(jìn)行測(cè)試，此外ArF浸沒(méi)式光刻膠產(chǎn)品已有樣品在測(cè)試階段。

據(jù)悉，上海新陽(yáng)主攻KrF和干法ArF光刻膠，已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段。其在2020年11月3日定增預(yù)案，公司擬定增募資不超過(guò)14.50億元，其中8.15億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，主要目標(biāo)為實(shí)現(xiàn)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，力爭(zhēng)于2023年前實(shí)現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。2021年6月，上海新陽(yáng)宣布，該公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品通過(guò)了客戶認(rèn)證，并成功取得訂單，其中通過(guò)認(rèn)證的KrF光刻膠產(chǎn)品客戶數(shù)量不斷增加，已進(jìn)入國(guó)內(nèi)主流芯片制造公司。目前除ArF光刻膠外，上海新陽(yáng)EUV光刻膠基本的研發(fā)工作正在進(jìn)行中；KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。

在ArF光刻膠的產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程上，除了上海新陽(yáng)，南大光電、徐州博康也取得較大進(jìn)展。南大光電ArF光刻膠有小批量訂單，尚未規(guī)模量產(chǎn)，目前已建成25噸產(chǎn)能的ArF光刻膠生產(chǎn)線。公司在2022年年末表示，ArF光刻膠項(xiàng)目正在順利推進(jìn)，有多款A(yù)rF光刻產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)大型芯片制造企業(yè)正進(jìn)行測(cè)試；徐州博康則在2022年11月22日舉辦的勢(shì)銀光刻膠產(chǎn)業(yè)大會(huì)上表示，ArF光刻膠已經(jīng)有兩支產(chǎn)品通過(guò)了客戶的小批量采購(gòu)，有4支產(chǎn)品在國(guó)際廠進(jìn)行驗(yàn)證評(píng)估，預(yù)計(jì)2022年12月和2023年一季度就會(huì)產(chǎn)生一定量的采購(gòu)訂單。

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