今日（2月14日），盛美上海宣布，公司已接到29臺(tái)Ultra C wb槽式濕法清洗設(shè)備的批量采購(gòu)訂單。

據(jù)介紹，該設(shè)備可應(yīng)用于加工300mm晶圓，其中16臺(tái)設(shè)備的重復(fù)訂單來(lái)自同一家中國(guó)國(guó)內(nèi)代工廠，重復(fù)訂單的目的是支持該工廠的擴(kuò)產(chǎn)。這批設(shè)備計(jì)劃從2022年開(kāi)始分兩個(gè)階段發(fā)貨。  

盛美上海表示，這是自公司建立以來(lái)最大的一筆槽式濕法清洗設(shè)備采購(gòu)訂單，設(shè)備支持廣泛的清洗應(yīng)用，現(xiàn)可搭載超低壓干燥（ULD）技術(shù)。

同時(shí)，盛美上海宣布推出用于300mm槽式系統(tǒng)的ULD（超低壓干燥）技術(shù)。該工藝專門(mén)為解決槽式清洗中干燥技術(shù)難題而設(shè)計(jì)，例如先進(jìn)半導(dǎo)體晶圓上的3D NAND結(jié)構(gòu)及邏輯產(chǎn)品的高寬深比結(jié)構(gòu)在槽式清洗中的干燥問(wèn)題。

據(jù)悉，盛美上海已于2021年第三季度向一家中國(guó)存儲(chǔ)器半導(dǎo)體制造商交付了首個(gè)ULD模塊，初步的工藝數(shù)據(jù)已證明了ULD在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)制造中的有效性。

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