根據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)的消息，東京電子6月8日發(fā)布消息稱，將向ASML和IMEC聯(lián)合運營的實驗室提供新一代設備，該設備將和ASML生產(chǎn)的EUV光刻設備進行組合，這是東京電子首次向上述實驗室提供設備。

該實驗室在縮小半導體電路線寬的微細化技術研發(fā)（R&D）方面具備世界頂尖水平。東京電子希望通過與該實驗室的合作，涉足最尖端半導體的研發(fā)，提升競爭優(yōu)勢性。

在共同研究方面，將把ASML的新一代EUV光刻設備和東京電子的涂布顯影設備組合為一體，提高半導體的生產(chǎn)效率。東京電子最早將于2022年上半年提供自己的設備，組合起來的設備則計劃最快于2023年投入使用。

近期，ASML也是大動作不斷，此前就有消息，ASML計劃在韓國建設光刻設備再制造工廠及培訓中心，主要用途是為韓國當?shù)剡\行的EUV光刻機的維護和升級提供助力，新廠預計在2025年建設完成，投資2400億韓元（約合13.7億人民幣）。

近期，又有消息稱，ASML將于今年開始為光刻機提供新型EUV防護膜，透光率可達90.6%，目前即將開始生產(chǎn)。

在營收方面，根據(jù)ASML發(fā)布的Q1季度財報，其在當季營收43.64億歐元，同比增79%，上年同期為24.41億歐元；凈利潤為13.31億歐元，同比增240%，上年同期為3.91億歐元。