6月1日，中微公司發(fā)布2021年5月投資者調(diào)研報(bào)告。中微公司稱，公司主要盈利模式為從事半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，通過向下游集成電路、LED芯片、先進(jìn)封裝、MEMS等半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造公司銷售刻蝕設(shè)備和MOCVD設(shè)備、提供配件或服務(wù)實(shí)現(xiàn)收入和利潤(rùn)。2021年一季度，中微公司毛利率40.92%，同比增長(zhǎng)7.06%，主要是MOCVD設(shè)備毛利率有一個(gè)比較好的改善。

據(jù)悉，中微公司是知名的半導(dǎo)體設(shè)備公司，產(chǎn)品定位于高端半導(dǎo)體設(shè)備。其中，刻蝕設(shè)備方面，中微公司的設(shè)備已應(yīng)用于全球先進(jìn)的7納米、5納米及其他先進(jìn)工藝集成電路加工制造生產(chǎn)線；在MOCVD設(shè)備領(lǐng)域，公司MOCVD設(shè)備持續(xù)在行業(yè)領(lǐng)先客戶生產(chǎn)線上大規(guī)模投入量產(chǎn)，保持在行業(yè)內(nèi)的領(lǐng)先地位。

此外，中微公司的MOCVD設(shè)備目前在氮化鎵基LED領(lǐng)域取得了領(lǐng)先的優(yōu)勢(shì)，未來會(huì)在保持當(dāng)前市場(chǎng)地位和技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)的基礎(chǔ)上，在Mini－LED新型顯示及功率器件等領(lǐng)域進(jìn)行布局。

ICP刻蝕產(chǎn)品方面，中微公司稱，電感性等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)在多個(gè)邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片廠商的生產(chǎn)線上量產(chǎn)，截止2020年底，公司的ICP設(shè)備PrimoNanova設(shè)備已有55個(gè)反應(yīng)臺(tái)在客戶端運(yùn)轉(zhuǎn)，經(jīng)過客戶驗(yàn)證的應(yīng)用數(shù)量也在持續(xù)增加。根據(jù)客戶的技術(shù)發(fā)展需求，公司正在進(jìn)行下一代產(chǎn)品的技術(shù)研發(fā)，以滿足5納米以下的邏輯芯片、1X納米的DRAM芯片和128層以上的3DNAND芯片等產(chǎn)品的ICP刻蝕需求，并進(jìn)行高產(chǎn)出的ICP刻蝕設(shè)備的研發(fā)。

中微公司看好薄膜設(shè)備未來的市場(chǎng)成長(zhǎng)，已就產(chǎn)品開發(fā)組建了專業(yè)的技術(shù)和營(yíng)運(yùn)團(tuán)隊(duì)，目前在前期產(chǎn)品研發(fā)的基礎(chǔ)上進(jìn)行必要的準(zhǔn)備工作。

展望未來，中微公司將采取三個(gè)維度的發(fā)展策略。第一個(gè)維度是從目前的等離子體刻蝕設(shè)備，擴(kuò)展到化學(xué)薄膜設(shè)備，和刻蝕及薄膜有關(guān)的測(cè)試等關(guān)鍵設(shè)備。第二個(gè)維度是，擴(kuò)展在泛半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的產(chǎn)品，從已經(jīng)開發(fā)的用于制造MEMS和影像感測(cè)器的刻蝕設(shè)備、制造藍(lán)光LED的MOCVD設(shè)備，擴(kuò)展到更多的微觀器件加工設(shè)備，及制造深紫外LED、Mini－LED、Micro－LED等微觀器件的設(shè)備產(chǎn)品。第三個(gè)維度是探索核心技術(shù)在環(huán)境保護(hù)、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域，以及在國(guó)計(jì)民生上的新的應(yīng)用。

此外，中微公司還將繼續(xù)通過有機(jī)生長(zhǎng)，不斷開發(fā)新的產(chǎn)品，不斷提高產(chǎn)品市場(chǎng)占有率；同時(shí)，公司將在適當(dāng)時(shí)機(jī)，通過投資、并購(gòu)等外延式生長(zhǎng)途徑，擴(kuò)大產(chǎn)品和市場(chǎng)覆蓋，向全球集成電路和LED芯片制造商提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的高端設(shè)備和高質(zhì)量服務(wù)，為全球半導(dǎo)體制造商及其相關(guān)的高科技新興產(chǎn)業(yè)公司提供加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案，助力他們提升技術(shù)水平、提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本。