近日，蘇州晶瑞化學股份有限公司（以下簡稱“晶瑞股份”）發(fā)布公告稱，經多方協商、積極運作，公司已順利購得ASML XT 1900 Gi型光刻機一臺，并于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

據悉，晶瑞化學此次采購的光刻機設備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機，可用于研發(fā)最高分辨率達28nm的高端光刻膠。該設備于2020年11月19日從原廠斷電停機，于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

公告顯示，本次購買的ASML光刻機設備系晶瑞股份集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目的必要實驗設備，旨在研發(fā)出更高端的ArF光刻膠，若研發(fā)工作進展順利，將有助于公司將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越，并最終實現應用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。

晶瑞股份表示，目前公司完成中試的KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。本次光刻機的順利入駐可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目關鍵設備的技術先進性，對加快產品研發(fā)項目進度有積極影響。

晶瑞股份在接受經濟觀察網咨詢有關光刻膠的生產研發(fā)狀況時表示，“公司目前正在生產和銷售的半導體光刻膠主要包括I線和G線光刻膠，此外還有印制電路板（PCB）和液晶顯示器（LCD）光刻膠等；購買的光刻機主要用于未來高端半導體光刻機的研發(fā)。”

公告顯示，下一步，晶瑞股份將積極組織相關資源，盡快完成設備的安裝調試工作。

封面圖片來源：ASML