對于國產(chǎn)光刻膠來說，今年的九月是極為特殊的一個月份。

9月23日，發(fā)改委聯(lián)合工信部、科技部、財政部共同發(fā)布了《關(guān)于擴大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長點增長極的指導(dǎo)意見》，《意見》提出，加快新材料產(chǎn)業(yè)強弱項，具體涉及加快在光刻膠、大尺寸硅片、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。

而在《意見》還未發(fā)布之前，部分企業(yè)已經(jīng)聞聲先動了。

8月15日，上海新陽發(fā)布公告，將募資15億投資高端光刻膠的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目。

9月14日，雅克科技宣布募資12億布局半導(dǎo)體材料，其中6億用來投入到光刻膠及光刻膠配套試劑中；兩天之后，馬鞍山簽約了9個項目，其中之一就是斯坦得LDI感光干膜及半導(dǎo)體光刻膠項目，總投資金額15億；月底，久日新材增資微芯新材2000萬研發(fā)光刻膠，為國產(chǎn)光刻膠的黃金9月收了個尾。

除了以上幾家企業(yè)加大投資、研發(fā)國產(chǎn)光刻膠之外，還有兩家企業(yè)通過購買光刻機的方式，開展光刻膠的研發(fā)。

同樣是在9月，晶瑞股份發(fā)布公告稱，擬1102萬美元購買二手的ASML光刻機，如果順利的話，可以加快高端光刻膠的研發(fā)進度。

在此之前的8月，英唐智控宣布，收購先鋒微技術(shù)已獲得了日本政府的批準(zhǔn)，本次收購英唐智控主要瞄準(zhǔn)的是光刻機和光刻膠。

以上種種跡象都表明，國產(chǎn)光刻膠要雄起了！

但是，別急。

01 光刻膠的兩大壁壘

光刻膠產(chǎn)業(yè)，尤其是高端光刻膠一直是日本企業(yè)所把持，這已不是什么鮮為人知的信息了，那么日本能把持光刻膠這么多年背后的深層次邏輯是什么？

究其原因，主要是技術(shù)和市場兩大壁壘過高導(dǎo)致的。

首先，光刻膠作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料，扮演著極其重要的角色，甚至可以和光刻機相媲美，但市場規(guī)模卻很小。2019年的全球光刻膠市場的規(guī)模才90億美元，不及一家大型IC設(shè)計企業(yè)的年營收，行業(yè)成長空間有限，自然進入的企業(yè)就少。

另一方面，光刻膠又是一個具有極高技術(shù)壁壘的產(chǎn)業(yè)。

由于不同的客戶會有不同的應(yīng)用需求，同一個客戶也有不同的光刻應(yīng)用需求。導(dǎo)致光刻膠的種類極其繁雜，必須通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化應(yīng)用需求，這也是光刻膠制造商最核心的技術(shù)。

第二點是光刻膠要有極好的穩(wěn)定性和一致性，如果質(zhì)量稍微出點問題，損失將會是巨大的。去年2月，臺積電因為光刻膠的原因?qū)е戮A污染，報廢十萬片晶圓，直接導(dǎo)致5.5億美元的賬面損失。

除了以上原因外，另一個重要原因是，經(jīng)過幾十年的發(fā)展，光刻膠已經(jīng)是一個相當(dāng)成熟且固化的產(chǎn)業(yè)。

2010年光刻膠的專利出現(xiàn)井噴，2013年之后，相關(guān)專利的申請已經(jīng)開始銳減。目前從專利申請量來看，富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)3家日本龍頭公司合計申請了行業(yè)80%以上的專利。

市場較小，技術(shù)壁壘又高，這意味著對于企業(yè)來說，發(fā)展光刻膠性價比不高，即便研發(fā)成功一款光刻膠，也要面臨較長的認(rèn)證周期，需要與下游企業(yè)建立合作關(guān)系。不過，一般下游企業(yè)都有自己穩(wěn)固的合作伙伴，對于他們來說，如果更換供應(yīng)商，又會是一個相當(dāng)長的驗證周期，費時費力。

綜上所述，光刻膠產(chǎn)業(yè)的特殊屬性，導(dǎo)致目前日本在這方面稱霸全球，而鮮有挑戰(zhàn)者。

02 最強王者的練成

事實上，日本的光刻膠并非一出場就是王者，而是從青銅一步步爬上去的。

光刻膠的雛形最早出現(xiàn)在200年前的法國，成長于美國，卻在日本的手上得到了發(fā)揚，這其中有日本自身的努力，也和時代環(huán)境密不可分。

上世紀(jì)80年代，說起光刻膠，IBM才是當(dāng)之無愧的最強王者，不僅突破壟斷了KrF光刻膠，ArF光刻膠的雛形也源自IBM公司，但是IBM的光刻膠沒有趕上好時代，空有一身本領(lǐng)卻無處施展。

由于當(dāng)時80年代半導(dǎo)體工藝還主要處于微米級別，這種工藝用i線就足夠，KrF光刻膠雖然先進，但是價格昂貴，并未得到廣泛應(yīng)用。

十年之后，KrF光刻膠可以被大規(guī)模商用了，但是市場卻發(fā)生了極大的變化。在這十年間，全球分工發(fā)生了重大的變化，一方面，美國的制造業(yè)開始出局，尤其是1986年半導(dǎo)體市場大滑坡，使美國光刻機三巨頭遭受重創(chuàng)，新產(chǎn)品研發(fā)停滯。

另一方面是伴隨著尼康和佳能的崛起，美國光刻機市場被日企一步步蠶食。自家光刻機自然用上自家的光刻膠。這一時間段，日本的東京應(yīng)化（TOK）、信越化學(xué)等開始加大研發(fā)光刻膠，才有了后來的超越。

天時地利人和共同決定了IBM沒能走到最后，反倒是日企后來者居上，霸占了整個光刻膠市場。有時候不得不承認(rèn)，技術(shù)過于先進導(dǎo)致沒有配套產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)，新技術(shù)得不到廣泛應(yīng)用，對于企業(yè)來說也是巨大的挑戰(zhàn)。

03 日本光刻膠動向

對于如今的日本光刻膠企業(yè)來說，沒有了外敵，更多的是內(nèi)部斗爭，相互搶占市場，搶占下一次先機。所以，近期富士膠片、住友化學(xué)和信越化學(xué)都做了一系列的大動作。

根據(jù)日經(jīng)新聞報道，富士膠片正投資45億日元（4260萬美元）在東京西南部的靜岡縣生產(chǎn)工廠配備設(shè)備，最早將于明年開始批量生產(chǎn)極紫外光（EUV）光刻技術(shù)的光刻膠。

同時，住友化學(xué)將在2022財年之前為大阪的一家工廠提供從開發(fā)到生產(chǎn)的全方位光刻膠生產(chǎn)能力。由于其強大的市場，該公司已經(jīng)達(dá)成了向大型制造商提供產(chǎn)品的臨時協(xié)議。

另一巨頭，信越化學(xué)則將耗資約300億日元（2.85億美元），在中國臺灣地區(qū)和日本擴廠，臺灣地區(qū)的云林廠將從2021年2月左右率先新增產(chǎn)能。

屆時，信越化學(xué)將開始在臺灣地區(qū)生產(chǎn)用于先進極紫外光（EUV）光刻技術(shù)的光刻膠。日本新瀉縣直江津的工廠的新設(shè)備預(yù)定在2022年2月開始運作。

04 日企擴產(chǎn)的邏輯

從最近各家的動向來看，國產(chǎn)光刻膠項目頻繁上馬，日本的巨頭也在擴大產(chǎn)能，像是大戰(zhàn)拉開序幕的前戲，實則有本質(zhì)的差別。

信越化學(xué)、富士膠片在日本與中國臺灣地區(qū)建廠，本質(zhì)上是要滿足全球代工企業(yè)與面板產(chǎn)業(yè)的需求。由于疫情帶動全球在線辦公、醫(yī)療等相關(guān)領(lǐng)域的拉升，持續(xù)推升了電源管理芯片、CIS影像傳感芯片、面板驅(qū)動芯片等需求熱絡(luò)。

再加上12寸邏輯IC、存儲器相關(guān)需求穩(wěn)定，晶圓代工需求旺盛，各大企業(yè)相繼出現(xiàn)了產(chǎn)能滿載的現(xiàn)象，甚至晶圓代工的交期被拉長。在面板產(chǎn)業(yè)上，疫情拉動面板需求，LG本來已經(jīng)打算在今年關(guān)閉LCD廠，因為疫情拉升面板需求，又給LG的LCD面板續(xù)了一口氣，宣布暫時先不關(guān)廠了。

另一方面，臺積電作為全球第一代半導(dǎo)體代工企業(yè)，產(chǎn)能早已出現(xiàn)供不應(yīng)求的現(xiàn)象，再加上5nm的量產(chǎn)和3nm的研發(fā)，對光刻膠需求進一步拉大，以上多種因素才是信越化學(xué)為何在臺灣地區(qū)和日本建廠的根本所在。

05 國產(chǎn)光刻膠的發(fā)展邏輯

國內(nèi)光刻膠企業(yè)最近動作頻出的原因，一方面是市場需求上升，另一方面也是自身需求所致。

從日本的光刻膠發(fā)家史不難發(fā)現(xiàn)，日本的光刻膠是伴隨著本國的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)一起崛起的，所以光刻膠必須要有配套產(chǎn)業(yè)的出現(xiàn)才能一步步做起來。

近年來，國產(chǎn)面板得到了突破性發(fā)展，但是很多上游原材料配套不足，供應(yīng)鏈都在海外，導(dǎo)致成本高企，所以這也給了國產(chǎn)光刻膠一個機會。再加上國內(nèi)晶圓代工近兩年取得較大的進步，對國產(chǎn)光刻膠需求也在明顯上升，這些都為國產(chǎn)光刻膠發(fā)展創(chuàng)造了良好的條件。

另一個層面來講，國產(chǎn)光刻膠需要獨立自主。雖然光刻膠的市場不大，但是有些產(chǎn)業(yè)的存在不僅僅是能否賺錢的問題，而是出于戰(zhàn)略需求。

回顧去年日本斷供韓國光刻膠事件，強大如韓國，依然被一個小小的光刻膠所卡死。所以應(yīng)該有國產(chǎn)光刻膠的存在，保證自身的戰(zhàn)略安全，這也是最近發(fā)改委為何會發(fā)文，要加快光刻膠、大尺寸硅片等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破的原因所在。

封面圖片來源：ASML