知情人士稱，美國(guó)美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機(jī)），以制造下一代存儲(chǔ)芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補(bǔ)貼。

日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。

今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì)見(jiàn)了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。

自2013年以來(lái)，美光已經(jīng)在日本投資超過(guò)130億美元，其中包括去年宣布的1-β存儲(chǔ)芯片。而最新的投資將幫助美光在日本生產(chǎn)所謂的1-γ芯片，這是美光計(jì)劃在2024年底推出的更先進(jìn)技術(shù)。

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