研究資料顯示，2017年全球半導(dǎo)體光刻設(shè)備，荷蘭廠商艾司摩爾(ASML)仍以85%的市占率穩(wěn)居龍頭，其次是日本廠商尼康(Nikon)的10.3%，以及佳能(Canon)的4.3%。這樣的市占率表現(xiàn)讓ASML連續(xù)16年穩(wěn)居市場第一的寶座。

報(bào)告中顯示，ASML之所以能夠幾乎以壟斷的地位占據(jù)半導(dǎo)體微影設(shè)備的市場，原因是ASML是目前唯一一家能提供極紫外光(EUV)微影設(shè)備的公司。這在目前半導(dǎo)體的晶圓代工領(lǐng)域，成為極其重要的關(guān)鍵設(shè)備?，F(xiàn)階段全球的晶圓代工大廠三星、臺積電、格羅方德等公司都將在7納米的制程中導(dǎo)入這項(xiàng)每部加值超過1億歐元的設(shè)備。因?yàn)榻逵蓸O紫外光微影設(shè)備的作業(yè)，可以降低原本采用深紫外光(DUV)的多模式制程步驟，并且減少沉積，因此成為各晶圓代工大廠進(jìn)入先進(jìn)制程不可或缺的關(guān)鍵。

不過，在2017年，EUV光刻機(jī)的年產(chǎn)量只有12臺，幾乎每個(gè)月只生產(chǎn)出一臺，呈現(xiàn)供不應(yīng)求。目前ASML的客戶有8個(gè)之多，其中就包括臺積電、三星和英特爾。這些半導(dǎo)體大廠們?yōu)榱丝焖倏焖傧乱淮碌闹瞥?，他們甚至還出錢幫助ASML加快研發(fā)EUV研發(fā)進(jìn)度。

只是，多年來EUV的商業(yè)化之路依舊走得艱辛。因?yàn)?，在光照亮度的提升始終未能達(dá)到客戶的預(yù)期，而且采用EUV技術(shù)的成本也高得嚇人的情況下，EUV技術(shù)的進(jìn)展一直很緩慢。過去，摩爾定律始終控制著半導(dǎo)體制程的發(fā)展，如今這些半導(dǎo)體大廠期望透過押注EUV的發(fā)展，進(jìn)一步改變摩爾定律極限的問題。

據(jù)了解，ASML目前在EUV光刻機(jī)累積的訂單已經(jīng)達(dá)到27臺，是目前年產(chǎn)量的兩倍多。也就是說，ASML在2018年之前的產(chǎn)能已經(jīng)全部都被訂光。所以，ASML目前也在采取措施，確保提高生產(chǎn)力能跟上需求。

據(jù)了解，ASML計(jì)劃在2018年將光刻機(jī)的年產(chǎn)量逐步擴(kuò)大到24臺，而到2019年將達(dá)到40臺的年產(chǎn)量。而這樣的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃，進(jìn)一步拉抬了ASML的股價(jià)。根據(jù)統(tǒng)計(jì)，ASML的股價(jià)在過去一年內(nèi)漲了30%，目前公司市值約為530億歐元。

如需獲取更多資訊，請關(guān)注全球半導(dǎo)體觀察官網(wǎng)（www.0318hs.cn）或搜索微信公眾賬號（全球半導(dǎo)體觀察）