晶圓代工廠臺(tái)積電持續(xù)積極沖刺先進(jìn)制程技術(shù)，7納米制程技術(shù)已于今年4月開始試產(chǎn)，5納米制程預(yù)計(jì)2019年上半年試產(chǎn)。

臺(tái)積電去年有多達(dá)54%營收來自28納米以下先進(jìn)制程，預(yù)估今年28納米以下先進(jìn)制程營收比重將達(dá)50%至60%水準(zhǔn)。

臺(tái)積電10納米制程技術(shù)已于去年第4季量產(chǎn)，并于今年第1季開始出貨，臺(tái)積電指出，因采取更積極的制程微縮，有助客戶強(qiáng)化成本優(yōu)勢，適用于移動(dòng)設(shè)備、服務(wù)器及繪圖芯片等效能驅(qū)動(dòng)的應(yīng)用市場。

至于7納米制程技術(shù)，臺(tái)積電表示，目前正順利開發(fā)中，今年4月開始試產(chǎn)。

因7納米與10納米制程有超過95%機(jī)臺(tái)設(shè)備相容，臺(tái)積電預(yù)期，7納米制程良率改善會(huì)相當(dāng)快速。

相較10納米制程，臺(tái)積電指出，7納米速度增快約25%，功耗降低約35%，另外，7納米制程還能針對(duì)行動(dòng)應(yīng)用或高速運(yùn)算元件，分別提供優(yōu)化的制程。

臺(tái)積電表示，5納米技術(shù)開發(fā)工作持續(xù)進(jìn)行，預(yù)計(jì)2019年上半年試產(chǎn)；并計(jì)劃在5納米制程廣泛使用及紫光外(EUV)微影技術(shù)，降低制程的復(fù)雜度。