根據(jù)《路透社》的報(bào)導(dǎo)，日本光學(xué)大廠尼康（Nikon）于24日表示，已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作伙伴卡爾·蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，并表示ASML及Carl Zeiss兩家公司在未經(jīng)Nikon的許可下將其微影（lithography）技術(shù)專利用于光刻機(jī)上，并運(yùn)用在半導(dǎo)體制造業(yè)中。

報(bào)導(dǎo)進(jìn)一步表示，世界第8大芯片設(shè)備制造商N(yùn)ikon在24日指出，已經(jīng)在荷蘭、德國(guó)和日本針對(duì)生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻機(jī)的荷蘭廠商ASML和旗下光電供應(yīng)商Carl Zeiss提起了專利侵權(quán)案件。Nikon在一份聲明中指出，ASML和Carl Zeiss在沒有得到許可的情況之下，采用了Nikon的專利技術(shù)，運(yùn)用在ASML的光刻機(jī)中。而光刻機(jī)是用在全球的半導(dǎo)體制造業(yè)中先進(jìn)制程不可缺少的設(shè)備，如此以進(jìn)一步侵犯了Nikon的專利。Nikon表示，正在尋求損害賠償，并防止ASML和Carl Zeiss出售該技術(shù)。

目前在全球的半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)中，ASML主導(dǎo)半導(dǎo)體光刻機(jī)的產(chǎn)品。根據(jù)惠譽(yù)評(píng)級(jí)（Fitch Ratings）在2017年1月份的一份研究報(bào)告中指出，這家荷蘭公司在這樣的高端的半導(dǎo)體設(shè)備中，占有90%的市場(chǎng)占有率。而根據(jù)ASML在19日所公布的2017年第1季財(cái)報(bào)顯示，第1季營(yíng)收凈利達(dá)19.4億歐元，毛利率為47.6%，EUV極紫外光微影系統(tǒng)的未出貨訂單則累積到21臺(tái)，價(jià)值高達(dá)23億歐元。而且預(yù)估ASML在2017第2季營(yíng)收凈利將落在19到20億歐元之間，毛利率約為43%到44%。

ASML的總裁兼執(zhí)行長(zhǎng)Peter Wennink對(duì)于Nikon所發(fā)起的訴訟表示，Nikon所提起的訴訟不但不必要，還毫無根據(jù)。而且，這還將對(duì)于全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)造成不確定性。他進(jìn)一步指出表示，ASML已多次嘗試與Nikon協(xié)商延長(zhǎng)交叉許可協(xié)議。

Nikon則表示，法律訴訟是在由美國(guó)退休法官于2016年底進(jìn)行的調(diào)解未成之后所決定發(fā)起的。而根據(jù)Nikon的說法，提起訴訟的3項(xiàng)微影技術(shù)專利，ASML和Carl Zeiss兩家公司分別在2004年支付Nikon 8,700萬(wàn)美元和5,800萬(wàn)美元的授權(quán)金。授權(quán)期限在2009年到期，而2014年底其專利權(quán)的過渡期也到期之后，雙方在2016年底經(jīng)過調(diào)解協(xié)商延長(zhǎng)交叉許可協(xié)議未成。