據(jù)悉，英特爾和日本國(guó)家研究機(jī)構(gòu)將在日本建立一個(gè)尖端半導(dǎo)體制造技術(shù)研發(fā)中心，以促進(jìn)該國(guó)芯片制造設(shè)備和材料行業(yè)的發(fā)展，而日本在這些領(lǐng)域具有優(yōu)勢(shì)。

該研發(fā)中心將在三到五年內(nèi)建成，將配備極紫外（EUV）光刻設(shè)備。設(shè)備和材料制造商將支付費(fèi)用以使用該設(shè)施進(jìn)行原型設(shè)計(jì)和測(cè)試。這將是日本第一個(gè)行業(yè)成員能夠共同使用EUV設(shè)備的中心。

日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省下屬的國(guó)家先進(jìn)工業(yè)科學(xué)和技術(shù)研究所（AIST）將負(fù)責(zé)運(yùn)營(yíng)該設(shè)施，而英特爾將提供使用EUV技術(shù)制造芯片的專(zhuān)業(yè)技能。該中心的總投資預(yù)計(jì)將達(dá)到數(shù)億美元。

EUV是5nm及以下半導(dǎo)體制造的一項(xiàng)必不可少的技術(shù)。納米級(jí)越小，芯片上可以塞入的晶體管就越多，從而提高計(jì)算能力。EUV設(shè)備每臺(tái)成本超過(guò)400億日元（2.73億美元），材料和設(shè)備供應(yīng)商很難獨(dú)自進(jìn)行這項(xiàng)投資。

這些公司目前使用比利時(shí)Imec等海外研究機(jī)構(gòu)的EUV設(shè)備來(lái)開(kāi)發(fā)他們的產(chǎn)品。在日本，旨在大規(guī)模生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體的Rapidus計(jì)劃于12月引入EUV設(shè)備進(jìn)行制造，但日本的研究機(jī)構(gòu)迄今為止還沒(méi)有這樣的設(shè)備。

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