據(jù)中國科學(xué)院官網(wǎng)消息，近日，由中國科學(xué)院西安光機(jī)所承擔(dān)的“國家雙創(chuàng)示范基地雙創(chuàng)支撐平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目——陜西光電子集成電路先導(dǎo)技術(shù)中試平臺(tái)”通過總體驗(yàn)收。

圖片來源：中國科學(xué)院官網(wǎng)

中國科學(xué)院官網(wǎng)介紹稱，西安光機(jī)所于2017年獲批國家 “第二批大眾創(chuàng)業(yè)萬眾創(chuàng)新示范基地”，并于2019年5月獲得“國家雙創(chuàng)示范基地雙創(chuàng)支撐平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目——陜西光電子集成電路先導(dǎo)技術(shù)中試平臺(tái)”批復(fù)。通過項(xiàng)目支持建設(shè)，平臺(tái)現(xiàn)已建成了一條可支持以VCSEL芯片為主的化合物半導(dǎo)體芯片研發(fā)、小試工藝線，具備了快測和全流程工藝流片能力，目前VCSEL4&6英寸快測及全流程工藝已通線。

封面圖片來源：拍信網(wǎng)