全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)18日公布2018第一季財(cái)報(bào)。ASML第一季營(yíng)收凈額(net sales)22.9億歐元，凈收入5.4億歐元，毛利率(gross margin)為48.7%。預(yù)估2018第二季營(yíng)收凈額 (net sales)將落在25~26億歐元之間，毛利率(gross margin)約為43%，反映EUV營(yíng)收將大幅增加。

ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得(Peter Wennink)表示，“第一季業(yè)績(jī)表現(xiàn)強(qiáng)勁，超出預(yù)期，主要來(lái)自于大量出貨，以及客戶(hù)對(duì)于深紫外光(DUV)微影系統(tǒng)和全方位微影方案(Holistic Litho)的需求。在EUV方面，本季我們共完成3臺(tái)EUV系統(tǒng)的出貨，而另1臺(tái)則正準(zhǔn)備出貨。我們?cè)诘谝患精@得9臺(tái)NXE:3400B的訂單，也確認(rèn)EUV業(yè)務(wù)持續(xù)成長(zhǎng)。”

“近來(lái)不同客戶(hù)都公開(kāi)討論將于今年底前將采用EUV進(jìn)行芯片量產(chǎn)。因此，我們計(jì)劃在2018年完成20臺(tái)EUV系統(tǒng)出貨，并在2019年將EUV出貨量拉升到30臺(tái)以上，全力協(xié)助客戶(hù)達(dá)成其量產(chǎn)目標(biāo)。此外，關(guān)于下一代High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV產(chǎn)品，我們也開(kāi)始從三個(gè)主要客戶(hù)方面接到4臺(tái)訂單，另外有8臺(tái)EUV訂單則是采取升級(jí)方案(options)。”

High-NA是EUV微影技術(shù)的延伸，其解析度(resolution)和微影疊對(duì)(overlay)能力比現(xiàn)行EUV系統(tǒng)提升70%，能夠?qū)崿F(xiàn)業(yè)界未來(lái)對(duì)于幾何式芯片微縮(geometric chip scaling) 的要求。“這是一個(gè)好的開(kāi)始，我們也樂(lè)觀預(yù)期2018年ASML將在業(yè)績(jī)和獲利能力上持續(xù)穩(wěn)健成長(zhǎng)。”溫彼得說(shuō)。

在深紫外光(DUV)微影方面，該公司最新的NXT機(jī)臺(tái)已經(jīng)達(dá)到每天曝光6,000片晶圓的產(chǎn)能里程碑，支援客戶(hù)量產(chǎn)需求。在全方位微影方案(Holistic Lithography)上，第一季已完成采用多重電子束技術(shù)(multiple e-beam)的圖案缺陷量測(cè)(pattern fidelity metrology)系統(tǒng)—ePfm5出貨。

該系統(tǒng)是ASML收購(gòu)漢微科后共同研發(fā)的產(chǎn)品，具備更高的解析度以檢測(cè)系統(tǒng)缺陷。這項(xiàng)創(chuàng)新的電子束量測(cè)系統(tǒng)和ASML的運(yùn)算式微影(Computational Lithography)軟體結(jié)合，能夠在實(shí)際制造芯片的過(guò)程中，即時(shí)提供電子束的反饋給微影系統(tǒng)。ASML也已經(jīng)證實(shí)多重電子束能夠進(jìn)一步提升電子束量測(cè)的產(chǎn)能，應(yīng)用于量產(chǎn)階段。

在極紫外光(EUV)微影方面，吞吐量(throughput)持續(xù)提升，在一個(gè)客戶(hù)端的測(cè)試中，達(dá)到每小時(shí)曝光125片晶圓的量產(chǎn)里程碑，同時(shí)在ASML的實(shí)驗(yàn)室中展現(xiàn)每小時(shí)曝光140片晶圓的實(shí)力。

展望2018年第二季，ASML預(yù)估整體銷(xiāo)售凈額可達(dá)25~26億歐元，毛利率約落在43%，反映EUV業(yè)務(wù)的強(qiáng)勁成長(zhǎng)。研發(fā)投資金額提高到3.75億歐元，而管銷(xiāo)費(fèi)用 (SG&A) 支出則約1.15億歐元，目標(biāo)年化稅率約14%。

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