目前，世界半導體制造龍頭三星、臺積電均已宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導體制造的關鍵設備之一極紫外光刻機（EUV）的關注度大幅提升。此后又有媒體宣稱，有的國家將對中國購買EUV實施限制，更是吸引了大量公眾的目光。以目前中國半導體制造業(yè)的發(fā)展水平，購買或者開發(fā)EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？

中國電子科技集團公司第四十五所集團首席專家柳濱：

中國力求2030年實現(xiàn)EUV光刻機國產(chǎn)化

193nm浸沒式光刻技術從2004年年底由TSMC和IBM公司應用以來，從90nm節(jié)點一直延伸到10nm節(jié)點，經(jīng)歷了12年時間。隨著7nm工藝的應用要求，193nm浸沒式光刻技術需要三到四次光刻，加劇了制造成本的提升和良率的降低。從工藝技術和制造成本綜合因素來看，普遍認為EUV設備是7nm以下工藝節(jié)點的最佳選擇，還要繼續(xù)往下延伸三代工藝，讓摩爾定律再延伸至少10年時間。

EUV除了價格昂貴之外（超過1億美元的價格），最大的問題是電能消耗大，電能利用率低，是傳統(tǒng)193nm光刻機的10倍，因為極紫外光的波長僅有13.5nm，投射到晶圓表面曝光的強度只有光進入EUV設備光路系統(tǒng)前的2%。在7nm成本比較中，7nm的EUV生產(chǎn)效率在80片/小時的耗電成本將是14nm的傳統(tǒng)光刻生產(chǎn)效率在240片/小時的耗電成本的1倍，這還不算設備購置成本和掩膜版設計制造成本的提高。2017年ASML宣布突破250W的EUV光源技術，EUV生產(chǎn)率達到125片/小時的實用化，實現(xiàn)里程碑的突破。

由于光刻技術是集成電路制造產(chǎn)業(yè)的核心，EUV是最新一代光刻技術，決定著我國集成電路制造進入國際主流技術和前端技術的關鍵環(huán)節(jié)。目前，先進國家的EUV技術已經(jīng)對我國形成了技術封鎖。

我國關注并發(fā)展EUV技術已有十幾年的時間，在國家02專項的支持下，相關單位取得了EUV光源等關鍵基礎性成果，在國家層面，《中國制造2025》將EUV列為集成電路制造領域的發(fā)展重點，并計劃在2030年實現(xiàn)EUV光刻機的國產(chǎn)化。

未來十幾年時間，圍繞EUV技術開展的各項研究和產(chǎn)業(yè)化推進將進一步展開，同時隨著國際化合作的推動，期盼著國內在該技術領域具有實質性突破，在我國半導體制造產(chǎn)業(yè)起到支撐作用。但是應該看到，ASML整個EUV技術商用化過程艱辛，投入的研發(fā)經(jīng)費巨大——超過200億美元。

家登精密董事長兼執(zhí)行長邱銘乾：

與EUV相關工藝技術要提早投入研究

談起7nm-5nm工藝升級，要回到一個原點，就是現(xiàn)有的光刻機要做到7nm-5nm，一定是做不下去的，傳統(tǒng)的方法是進行3次光刻。然而，這種做法會增加工藝流程，進而降低效率、增加成本。過去，在EUV尚未完善的時候，不得不采用這種做法。隨著EUV產(chǎn)品技術的相對成熟，光效提升、曝光速度逐步提高，我相信如果不使用EUV，要做到真正的5nm或者7nm工藝是有困難的?，F(xiàn)在業(yè)界對于7nm工藝，有7nm、7plus等的細分，其中便有是否采用EUV的因素。如果全部采用EUV生產(chǎn)，產(chǎn)能和良率都有一定問題，因此會部分采用3次曝光的做法，進而出現(xiàn)工藝的細分。

ASML的EUV的光刻機價格高昂也是一個問題?，F(xiàn)在中國大陸正在突破28nm工藝，主流技術在45nm-60nm-90nm階段，進展到14nm-10nm-7nm還有一段路要走。因此什么時候采用EUV需要仔細考慮。此外，在技術上也是一個挑戰(zhàn)。目前第一梯隊的公司英特爾、臺積電、三星，在切入10nm-7nm-5nm之際都花費了大量的時間和資源。后續(xù)的第二梯隊、第三梯隊的公司要想跨過這道門檻也將花費大量的時間和資源。

如果中國大陸半導體廠商有計劃向10nm-7nm-5nm推進，建議相關公司要提早進行相應研究，特別是與EUV相關的工藝技術。現(xiàn)在EUV技術還不夠成熟，相關公司都在摸索。未來對技術的保密程度會越來越高，3~5年后再開展研究，難度會加大。

企業(yè)的發(fā)展定位不同，若有些廠商希望成為有量產(chǎn)能力、利潤不會很高的廠商，則不需要投入EUV的研發(fā)；如果廠商定位的是成為業(yè)內翹楚，那就應早點進入EUV領域，因為現(xiàn)階段沒有EUV做不了3nm和5nm，這是很明確的答案。

盛美半導體董事長王暉：

中國設備廠要關注與EUV配合衍生的新工藝

EUV是一個新的技術，它的挑戰(zhàn)有很多。其中一個挑戰(zhàn)就是光源，光源可以使用多長時間？是否需要強光？產(chǎn)生的污染怎么解決？此外，若曝光時間很長，曝光效果就會受到影響。雖然在工藝流程中，采用EUV可以減少曝光次數(shù)，但是機器修理次數(shù)會增多，最終的結果還是不理想的。

EUV是一個趨勢，先進工藝不用EUV肯定不行，但是采用EUV也是一個長期的過程，需要投入大量資源。廠商投入的時間點非常重要。對中國設備廠來說，從長期看，肯定會受到EUV的影響，與EUV配合將衍生新的工藝，在此基礎上，相關設備要與之配合。所以中國設備廠要跟蹤新的技術進展，注意相關工藝的變化，做好技術上的準備。當然，EUV是一個新技術，中國廠商也剛剛開始接觸，要時刻注意與其相關的工藝的變化。如果對現(xiàn)有工藝有沖擊的話就應該準備，應該采取積極的態(tài)度面對。

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