半導(dǎo)體微影技術(shù)大廠艾司摩爾(ASML)公布2017第二季財(cái)報(bào)。ASML在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV微影系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。預(yù)估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因?yàn)槭袌?chǎng)需求和第二季的強(qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年?duì)I收成長可達(dá)25%。

ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得(Peter Wennink)指出：“ASML今年的主要營收貢獻(xiàn)來自存儲(chǔ)器芯片客戶，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅(qū)動(dòng)下，這部分的營收預(yù)估將比去年成長50%，而來自邏輯芯片方面的營收也可望成長15%。在EUV微影系統(tǒng)部分，未出貨訂單累積金額在第二季已經(jīng)累積到28億歐元，顯示不論邏輯芯片和DRAM客戶，都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段。”此外，ASML近年來積極推行系統(tǒng)升級(jí)業(yè)務(wù)，該部分的營收貢獻(xiàn)可望在今年成長20%，也認(rèn)為成長動(dòng)能將延續(xù)到2018年。

第二季產(chǎn)品重點(diǎn)摘要部份，在深紫外光(DUV)微影方面，推出最新浸潤式微影系統(tǒng)TWINSCAN NXT:2000i，讓客戶得以在7納米和5納米制程節(jié)點(diǎn)上，同時(shí)用浸潤式微影和EUV系統(tǒng)進(jìn)行量產(chǎn)，并達(dá)到2.5納米的疊對(duì)精度(on-product overlay)。另一方面，3D NAND客戶對(duì)于KrF乾式微影系統(tǒng)的需求持續(xù)升高，目前TWINSCAN XT:860的未出貨訂單已累積超過20臺(tái)。TWINSCAN XT:860系統(tǒng)的生產(chǎn)力可達(dá)到每天曝光5,300片晶圓。

就全方位微影優(yōu)化方案(Holistic Lithography)部份，本季開始出貨最新的YieldStar 375F量測(cè)系統(tǒng)，具備最新的光學(xué)技術(shù)，可更快、更精準(zhǔn)的獲取量測(cè)結(jié)果。至于極紫外光(EUV)微影，在荷蘭總部已經(jīng)成功將升級(jí)的EUV光源整合進(jìn)NXE:3400B系統(tǒng)中，并達(dá)成每小時(shí)輸出125片晶圓的生產(chǎn)力指標(biāo)。在第二季當(dāng)中，ASML也完成了對(duì)德國卡爾蔡司(ZEISS)旗下蔡司半導(dǎo)體(Carl Zeiss SMT)24.9%的股權(quán)收購，以進(jìn)一步深化雙方的策略伙伴關(guān)系，共同發(fā)展下一代EUV微影系統(tǒng)。

展望2017年第三季，ASML預(yù)估整體銷售凈額可達(dá)22億歐元，毛利率約落在43%，其中包含約3億歐元的EUV營收認(rèn)列。研發(fā)投資金額提高到3.15億歐元，其他收入部份(包括來自于客戶共同投資計(jì)劃的收入)約為2,400萬歐元，而管銷費(fèi)用(SG&A)支出則約1.05億歐元，年化稅率約14%。ASML預(yù)計(jì)在第三季會(huì)有另外3臺(tái)NXE:3400B EUV微影系統(tǒng)完成出貨。

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