全球半導(dǎo)體微影技術(shù)廠商艾司摩爾（ASML）19 日公布 2017 第一季財(cái)報(bào)。ASML 第一季營收凈額（net sales）19.4 億歐元，毛利率（gross margin）為 47.6%，EUV 極紫外光微影系統(tǒng)的未出貨訂單則累積到 21 臺(tái)，價(jià)值高達(dá) 23 億歐元。預(yù)估 2017 第二季營收凈額（net sales）將落在 19~20 億歐元之間，毛利率（gross margin）約為 43~44%。

 

ASML 總裁暨執(zhí)行長溫彼得（Peter Wennink）指出 : “積極的產(chǎn)業(yè)環(huán)境為 2017 年提供了一個(gè)的強(qiáng)勁開始，我們預(yù)估這樣健康的市場(chǎng)需求將持續(xù)今年一整年。我們看到客戶對(duì)于 DUV 的強(qiáng)烈需求。由于有些客戶選購效能升級(jí)方案來優(yōu)化他們現(xiàn)有的浸潤式機(jī)臺(tái)，因此我們的服務(wù)和升級(jí)業(yè)務(wù)在第一季度的表現(xiàn)也非常好。我們預(yù)估這樣的趨勢(shì)將延續(xù)到第二季。”

 

“EUV 極紫外光微影系統(tǒng)正進(jìn)入量產(chǎn)階段，訂單持續(xù)涌入，目前的未出貨訂單已累積到 21臺(tái)。”溫彼得說。

 

 

深紫外光（DUV）微影：持續(xù)出貨 NXT：1980 浸潤式微影系統(tǒng)給存儲(chǔ)器客戶及邏輯芯片客戶來進(jìn)行 10 納米量產(chǎn)和 7 納米制程開發(fā)，目前 NXT：1980 浸潤式系統(tǒng)的累積裝機(jī)量已提達(dá)到 60 多臺(tái)。

 

全方位微影優(yōu)化方案（Holistic Lithography）：本季 ASML 和 Cadence 宣布合作，將 ASML的微影和圖樣模擬（patterning simulation）模型整合到 Cadence 的產(chǎn)品中，這將幫助芯片設(shè)計(jì)業(yè)者在設(shè)計(jì)階段就能進(jìn)行可生產(chǎn)性確認(rèn)，以達(dá)到更好的效能并縮短上市時(shí)程。

 

極紫外光（EUV）微影：已在第一季末到第二季初間完成第一臺(tái) NXE：3400B 系統(tǒng)出貨。

 

展望 2017 年第二季，ASML 預(yù)估整體銷售凈額可達(dá) 19~20 億歐元，毛利率約落在 43~44%，其中包含約 2 億歐元的 EUV 營收。研發(fā)投資金額提高到 3.15 億歐元，其他收入部分（包括來自客戶共同投資計(jì)劃的收入）約為 2,400 萬歐元，而管銷費(fèi)用（SG&A）支出則約 1 億歐元，年化稅率約 13~14%。ASML 預(yù)估在第二季會(huì)有另外 3 臺(tái) NXE：3400B EUV 微影系統(tǒng)完成出貨。

 

來源：TechNews科技新報(bào)