2024-10-10
High NA EUV光刻機將不太可能像當前標準EUV光刻機那樣出現(xiàn)延遲交貨的情況，其原因是ASML找到了組裝掃描器組件的新方法，就是直接在客戶工廠安裝...
2024-08-06
英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元（約3.83億美元）的新High NA EUV設備。根據(jù)英特爾8/1財報電話會議紀錄，CEO Pat...
2024-07-18
7月17日，全球最大的光刻設備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約...
2024-07-11
近日，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥新任CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）表示，世界需要中國生產(chǎn)的傳統(tǒng)制程芯片....
2024-07-02
近日，據(jù)朝鮮日報報道，阿斯麥（ASML）將針對1納米以下制程，計劃在2030年推出更先進Hyper-NA EUV光刻機設備，但可能超...
2024-06-18
據(jù)EETimes報導，ASML已公布下代機臺Hyper-NA EUV藍圖，目前為開發(fā)早期階段。ASML前技術長Martin van den Brink 5月在....
2024-06-11
6月19日（周三）,TrendForce集邦咨詢將在深圳舉辦“2024集邦咨詢半導體產(chǎn)業(yè)高層論壇（TrendForce Semiconductor Seminar 2024）”.....
2024-05-11
4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的....
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