COP(crystal originated particle)是存在于晶圓片的空洞，在經(jīng)過氧化溶液SC1（NH4OH：H2O2:H2O=1：1：5）的處理后，可出現(xiàn)小的蝕刻坑洞。而這種晶圓片在經(jīng)由光線散射儀器所量測出來的微粒（particle），一般稱之為LPD（light point defect）。

最早期，LPD一直被認(rèn)為是晶圓片加工過程所引進(jìn)的污染微粒，直到1990年才發(fā)現(xiàn)大部分的LPD是由長晶過程所產(chǎn)生的空洞，因此被稱之為COP。COP的大小一般在100到200nm之間。

利用AFM所觀察到經(jīng)過SC1處理后的攀生狀COP：

俯視圖

3D視圖

另外，觀察發(fā)現(xiàn)晶圓片重復(fù)在SC1溶液中清洗后，COP的大小與數(shù)目會顯著的增加。這是因為原來出現(xiàn)在晶圓片表面的COP，不會因為重復(fù)清洗而消失，而位于次表面的空洞卻會因重復(fù)清洗，而出現(xiàn)在表面成為新的COP。